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  • PECVD 等離子體增強化學氣相沉積系統PD-220系列
    PECVD 等離子體增強化學氣相沉積系統PD-220系列
    等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)是通過將活性氣體變成等離子體狀態，在目標基材上產生活性自由基和離子，使目標基材發生化學反應而形成薄膜的技術。在化合物半導體和硅半導體的制造過程中，用于沉積作為鈍化膜的氮化硅薄膜（SiN）和作為層間絕緣膜的氧化硅薄膜（SiO?）。
    型號：PD-220系列
    發布時間：2026-03-15
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